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Sigma-Aldrich

Nitromethane-d3

99 atom % D

Synonyme(s) :

Trideuteronitromethane

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About This Item

Formule linéaire :
CD3NO2
Numéro CAS:
Poids moléculaire :
64.06
Numéro Beilstein :
1751076
Numéro CE :
Numéro MDL:
Code UNSPSC :
12142201
ID de substance PubChem :
Nomenclature NACRES :
NA.21

Pureté isotopique

99 atom % D

Niveau de qualité

Pureté

99% (CP)

Forme

liquid

Limite d'explosivité

7.1-63 % (lit.)

Technique(s)

NMR: suitable

Impuretés

≤0.1000% water
water

Indice de réfraction

n20/D 1.3795 (lit.)

Point d'ébullition

100 °C (lit.)

Pf

-29 °C (lit.)

Densité

1.183 g/mL at 25 °C (lit.)

Changement de masse

M+3

Chaîne SMILES 

[2H]C([2H])([2H])[N+]([O-])=O

InChI

1S/CH3NO2/c1-2(3)4/h1H3/i1D3

Clé InChI

LYGJENNIWJXYER-FIBGUPNXSA-N

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Description générale

Nitromethane-d3 is a deuterated derivative of nitromethane. Its pyrolytic decomposition in the absence and presence of nitrogen dioxide have been studied. Molecular structure studies suggest that its molecule is composed of a highly asymetrical top consisting of a heavy planar frame of NO2 (C2v symmetry) and a lighter top of CD3 (C3v symmetry). Rotational constants, high-resolution Fourier transform infrared (FTIR) spectrum and DFT (Density Functional Theory) calculations of nitromethane-d3 have been evaluated. Various physicochemical properties (densities, viscosities, speed of sound and refractive indices) of CD3NO2 have been evaluated in the temperature range of 293K to 308K.

Application


  • Asymmetric transformation of a double-stranded, dicopper(I) helicate containing achiral bis(bidentate) Schiff bases.: This study used Nitromethane-d₃ to investigate the asymmetric transformation in dicopper(I) helicates, providing insights into chiral synthesis and coordination chemistry applications (Habermehl et al., 2006).

  • Reversing a rotaxane recognition motif: threading oligoethylene glycol derivatives through a dicationic cyclophane.: The research employed Nitromethane-d₃ in the synthesis and study of rotaxanes, focusing on molecular recognition and self-assembly processes important for developing advanced materials and nanotechnology (Chiu and Stoddart, 2002).

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Classe de danger pour l'eau (WGK)

WGK 2

Point d'éclair (°F)

95.0 °F - closed cup

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