GF98838444
Tantalum
foil, 100x100mm, thickness 1.5mm, annealed, 99.9%
Synonyme(s) :
Tantalum, TA000520, Ta
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About This Item
Pression de vapeur
<0.01 mmHg ( 537.2 °C)
Pureté
≥99.9%
Forme
foil
Température d'inflammation spontanée
572 °F
Fabricant/nom de marque
Goodfellow 988-384-44
Résistivité
13.5 μΩ-cm, 20°C
Point d'ébullition
5425 °C (lit.)
Pf
2996 °C (lit.)
Densité
16.69 g/cm3 (lit.)
Chaîne SMILES
[Ta]
InChI
1S/Ta
Clé InChI
GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N
Description générale
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Informations légales
Product of Goodfellow
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The journal of physical chemistry. B, 109(10), 4796-4800 (2006-07-21)
Both monolayer and thick (20 microm) films of dry pGEM-3Zf(-) plasmid DNA deposited on tantalum foil were exposed to Al Kalpha X-rays (1.5 keV) for various times in an ultrahigh vacuum chamber. For monolayer DNA, the damage was induced mainly
Tantalum foil pegs.
American journal of ophthalmology, 34(3), 444-444 (1951-03-01)
Radiation research, 165(4), 452-459 (2006-04-04)
We determined effective cross sections for production of single-strand breaks (SSBs) in plasmid DNA [pGEM 3Zf(-)] by electrons of 10 eV and energies between 0.1 and 4.7 eV. After purification and lyophilization on a chemically clean tantalum foil, dry plasmid
Tantalum foil cuffs in peripheral nerve surgery.
Surgery, 23(3), 507-514 (1948-03-01)
Applied optics, 31(22), 4397-4404 (1992-08-01)
A simple four-element fused-silica lens is presented that has a focal length of 31.2 mm and a relative aperture of f/1 for use as a focusing lens for deep UV laser processing. The curvature of the lens is designed with
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