651788
Negative resist developer I
About This Item
Produits recommandés
Point d'ébullition
129-138 °C (lit.)
Densité
0.89 g/mL at 25 °C (lit.)
Température de stockage
2-8°C
Catégories apparentées
Description générale
Mention d'avertissement
Danger
Mentions de danger
Conseils de prudence
Classification des risques
Acute Tox. 4 Dermal - Acute Tox. 4 Inhalation - Aquatic Chronic 3 - Asp. Tox. 1 - Eye Irrit. 2 - Flam. Liq. 3 - Repr. 1B - Skin Irrit. 2 - STOT RE 2 Inhalation - STOT SE 3
Organes cibles
Central nervous system,Liver,Kidney, Respiratory system
Code de la classe de stockage
3 - Flammable liquids
Classe de danger pour l'eau (WGK)
WGK 2
Point d'éclair (°F)
78.8 °F - closed cup
Point d'éclair (°C)
26 °C - closed cup
Équipement de protection individuelle
Eyeshields, Faceshields, Gloves, type ABEK (EN14387) respirator filter
Certificats d'analyse (COA)
Recherchez un Certificats d'analyse (COA) en saisissant le numéro de lot du produit. Les numéros de lot figurent sur l'étiquette du produit après les mots "Lot" ou "Batch".
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Protocoles
Photoresist kit offers pre-weighed chemical components for lithographic processes, with separate etchants for various substrate choices.
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