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Sigma-Aldrich

Hexaméthyldisiloxane

≥98%

Synonyme(s) :

HMDSO

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About This Item

Formule linéaire :
(CH3)3SiOSi(CH3)3
Numéro CAS:
107-46-0
Poids moléculaire :
162.38
Numéro Beilstein :
1736258
Numéro CE :
203-492-7
Numéro MDL:
MFCD00008265
Code UNSPSC :
12352103
ID de substance PubChem :
24852329
Nomenclature NACRES :
NA.22

Densité de vapeur

>1 (vs air)

Pureté

≥98%

Forme

liquid

Indice de réfraction

n20/D 1.377 (lit.)

Point d'ébullition

101 °C (lit.)
101 °C

Pf

−59 °C (lit.)

Densité

0.764 g/mL at 20 °C (lit.)

Chaîne SMILES 

C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C

InChI

1S/C6H18OSi2/c1-8(2,3)7-9(4,5)6/h1-6H3

Clé InChI

UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N

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Description générale

Hexamethyldisiloxane (HMDSO), a linear polydisiloxane, is an organosilicon reagent commonly utilized as a source for plasma enhanced chemical vapor deposition (PE-CVD) of thin films of silicon compounds. It is also employed as a substitute to silane in silicon integrated circuit technology. Its dissociative ionization by electron impact has been studied by Fourier transform mass spectrometry. Synthesis of plasma-polymerized HMDSO thin films by atmospheric pressure glow (APG) discharge has been reported. Crystals of HMDSO at 148K are monoclinic. Addition of HMDSO to P4S10, improves its efficiency as thionating agent.

Application

Hexamethyldisiloxane can be used:
  • To fabricate a gas diffusion layer (GDL) with controlled hydrophobic silicone nano-layer by the dry deposition process.
  • To prepare silver nanoparticles coated with silica using arginine and glucose as the catalyst and the reducing agent, respectively.

Pictogrammes

FlameEnvironment
GHS02,GHS09

Mention d'avertissement

Danger

Mentions de danger

H225,H410

Conseils de prudence

P210 - P273

Classification des risques

Aquatic Acute 1 - Aquatic Chronic 1 - Flam. Liq. 2

Code de la classe de stockage

3 - Flammable liquids

Classe de danger pour l'eau (WGK)

WGK 2

Point d'éclair (°F)

21.2 °F - closed cup

Point d'éclair (°C)

-6 °C - closed cup

Équipement de protection individuelle

Eyeshields, Faceshields, Gloves, type ABEK (EN14387) respirator filter

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Plasmas and polymers, 5(3-4), 173-190 (2000)
Synthesis of plasma-polymerized tetraethoxysilane and hexamethyldisiloxane films prepared by atmospheric pressure glow discharge.
Sawada Y, et al.
Journal of Physics D: Applied Physics, 28(8), 1661-1661 (1995)
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