Accéder au contenu
Merck
Toutes les photos(1)

Documents

205184

Sigma-Aldrich

Hexachlorodisilane

96%

Synonyme(s) :

1,1,1,2,2,2-Hexachlorodisilane, Disilicon hexachloride, HCDS

Se connecterpour consulter vos tarifs contractuels et ceux de votre entreprise/organisme
Toutes les photos(1)

About This Item

Formule linéaire :
(SiCl3)2
Numéro CAS:
13465-77-5
Poids moléculaire :
268.89
Numéro CE :
236-704-1
Numéro MDL:
MFCD00011599
Code UNSPSC :
12352103
ID de substance PubChem :
24852311
Nomenclature NACRES :
NA.23

Pureté

96%

Forme

liquid

Indice de réfraction

n20/D 1.475 (lit.)

Point d'ébullition

144-145.5 °C (lit.)

Densité

1.562 g/mL at 25 °C (lit.)

Chaîne SMILES 

Cl[Si](Cl)(Cl)[Si](Cl)(Cl)Cl

InChI

1S/Cl6Si2/c1-7(2,3)8(4,5)6

Clé InChI

LXEXBJXDGVGRAR-UHFFFAOYSA-N

Vous recherchez des produits similaires ? Visite Guide de comparaison des produits

Description générale

Hexachlorodisilane (HCDS) is a chlorosilane used as a precursor for producing disilanes. It is a dioxidizer that is used in the production of silicon films and silicon nitride based films.

Application

HCDS can be used in the fabrication of silica aerogels by chemical vapor deposition (CVD), which can be potentially used as encapsulating agents and thermal insulators. It can also be used to synthesize 1,1,1,2,2,2-hexaamino-disilanes using CVD, which forms silicon-based films for microelectronic-based applications.
HCDS may be used as a reducing agent. It may be combined with ammonia to form silicon nitride by chemical vapor deposition(CVD) technique.

À utiliser avec

Réf. du produit
Description
Tarif

Pictogrammes

Corrosion
GHS05

Mention d'avertissement

Danger

Mentions de danger

H314

Classification des risques

Skin Corr. 1B

Risques supp

EUH014

Code de la classe de stockage

8A - Combustible corrosive hazardous materials

Classe de danger pour l'eau (WGK)

WGK 3

Point d'éclair (°F)

Not applicable

Point d'éclair (°C)

Not applicable

Équipement de protection individuelle

Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter

Certificats d'analyse (COA)

Recherchez un Certificats d'analyse (COA) en saisissant le numéro de lot du produit. Les numéros de lot figurent sur l'étiquette du produit après les mots "Lot" ou "Batch".

Déjà en possession de ce produit ?

Retrouvez la documentation relative aux produits que vous avez récemment achetés dans la Bibliothèque de documents.

Consulter la Bibliothèque de documents

Chemical vapor deposition of silicon films using hexachlorodisilane
Taylor, R. C., Scott, B. A., Lin, S. T., LeGoues, F., & Tsang, J. C.
MRS Proceedings, 77, 709-709 (1986)
Film Properties of Low?k Silicon Nitride Films Formed by Hexachlorodisilane and Ammonia.
Tanaka M , et al.
Journal of the Electrochemical Society, 147(6), 2284-2289 (2000)
Use of hexachlorodisilane as a reducing agent. Stereospecific deoxygenation of acyclic phosphine oxides.
Naumann K, et al.
Journal of the American Chemical Society, 91(25), 7012-7023 (1969)
Initial Reaction of Hexachlorodisilane on Amorphous Silica Surface for Atomic Layer Deposition Using Density Functional Theory.
Kim K, et al.
Journal of the Korean Ceramic Society, 54(5), 443-447 (2017)
Enhancing mechanical properties of silica aerogels.
Obrey KAD, et al.
Journal of Non-Crystalline Solids, 357(19-20), 3435-3441 (2011)
Afficher tous les articles scientifiques apparentés

Notre équipe de scientifiques dispose d'une expérience dans tous les secteurs de la recherche, notamment en sciences de la vie, science des matériaux, synthèse chimique, chromatographie, analyse et dans de nombreux autres domaines..

Contacter notre Service technique