Accéder au contenu
MilliporeSigma
Toutes les photos(1)

Principaux documents

30101

Sigma-Aldrich

Ammonium fluoride

puriss. p.a., ACS reagent, ≥98%

Se connecterpour consulter vos tarifs contractuels et ceux de votre entreprise/organisme


About This Item

Formule linéaire :
NH4F
Numéro CAS:
Poids moléculaire :
37.04
Numéro CE :
Numéro MDL:
Code UNSPSC :
12352302
eCl@ss :
38050106
ID de substance PubChem :

Qualité

ACS reagent
puriss. p.a.

Essai

≥98%

Forme

solid

Impuretés

≤0.1% hexafluorosilicate (as SiF6)
≤1% ammonium hydrogen difluoride (NH4HF2)

Résidus de calcination

≤0.005% (as SO4)

Traces d'anions

chloride (Cl-): ≤5 mg/kg
sulfate (SO42-): ≤50 mg/kg

Traces de cations

Cd: ≤5 mg/kg
Cu: ≤5 mg/kg
Fe: ≤5 mg/kg
K: ≤20 mg/kg
Na: ≤20 mg/kg
Pb: ≤5 mg/kg
Zn: ≤5 mg/kg

Chaîne SMILES 

N.F

InChI

1S/FH.H3N/h1H;1H3

Clé InChI

LDDQLRUQCUTJBB-UHFFFAOYSA-N

Vous recherchez des produits similaires ? Visite Guide de comparaison des produits

Pictogrammes

Skull and crossbones

Mention d'avertissement

Danger

Mentions de danger

Classification des risques

Acute Tox. 3 Dermal - Acute Tox. 3 Inhalation - Acute Tox. 3 Oral

Code de la classe de stockage

6.1D - Non-combustible acute toxic Cat.3 / toxic hazardous materials or hazardous materials causing chronic effects

Classe de danger pour l'eau (WGK)

WGK 1

Point d'éclair (°F)

does not flash

Point d'éclair (°C)

does not flash


Faites votre choix parmi les versions les plus récentes :

Certificats d'analyse (COA)

Lot/Batch Number

Désolés, nous n'avons pas de COA pour ce produit disponible en ligne pour le moment.

Si vous avez besoin d'assistance, veuillez contacter Service Clients

Déjà en possession de ce produit ?

Retrouvez la documentation relative aux produits que vous avez récemment achetés dans la Bibliothèque de documents.

Consulter la Bibliothèque de documents

Etching processing of Si (111) and Si (100) surfaces in an ammonium fluoride solution investigated by in situ ATR-IR.
Nakamura M, et al.
Electrochimica Acta, 41(5), 681-686 (1996)
Jae Hoon Bong et al.
Nanoscale, 6(15), 8503-8508 (2014-06-21)
We report a post-synthetic n-doping method for chemical-vapor-deposition (CVD) grown graphene using wet chemical processing. An ammonium fluoride solution was found effective in converting pristine hole doping into electron doping in addition to the mobility improvement of charge carriers. We
Surface analysis of the electropolishing layer on Si (111) in ammonium fluoride solution.
Lewerenz HJ, et al.
Electrochimica Acta, 45(28), 4615-4627 (2000)
On the Etching of Silicon by Oxidants in Ammonium Fluoride Solutions A Mechanistic Study.
Gerischer H and Lubke M.
Journal of the Electrochemical Society, 135(11), 2782-2786 (1988)
Yuntao Li et al.
Journal of hazardous materials, 172(2-3), 635-640 (2009-08-12)
A F-doped vanadia/titania catalyst has been developed by partly substituting the lattice oxygen of the catalyst with fluorine, using NH(4)F as a precursor. The aim of this novel design was to promote the activity of a catalyst with low vanadia

Notre équipe de scientifiques dispose d'une expérience dans tous les secteurs de la recherche, notamment en sciences de la vie, science des matériaux, synthèse chimique, chromatographie, analyse et dans de nombreux autres domaines..

Contacter notre Service technique