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GF55367185

Tantalum

foil, 0.2m coil, thickness 0.01mm, 99.9%

Synonyme(s) :

Tantalum, TA000290, Ta

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About This Item

Formule empirique (notation de Hill):
Ta
Numéro CAS:
Poids moléculaire :
180.95
Numéro MDL:
Code UNSPSC :
12141741
ID de substance PubChem :
Nomenclature NACRES :
NA.23

Pression de vapeur

<0.01 mmHg ( 537.2 °C)

Pureté

99.9%

Forme

foil

Température d'inflammation spontanée

572 °F

Fabricant/nom de marque

Goodfellow 553-671-85

Résistivité

13.5 μΩ-cm, 20°C

L × épaisseur

0.2 m × 0.01 mm

Point d'ébullition

5425 °C (lit.)

Pf

2996 °C (lit.)

Densité

16.69 g/cm3 (lit.)

Chaîne SMILES 

[Ta]

InChI

1S/Ta

Clé InChI

GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N

Description générale

For updated SDS information please visit www.goodfellow.com.

Informations légales

Product of Goodfellow

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Radmila Panajotovic et al.
Radiation research, 165(4), 452-459 (2006-04-04)
We determined effective cross sections for production of single-strand breaks (SSBs) in plasmid DNA [pGEM 3Zf(-)] by electrons of 10 eV and energies between 0.1 and 4.7 eV. After purification and lyophilization on a chemically clean tantalum foil, dry plasmid
T Y Hung et al.
Applied optics, 31(22), 4397-4404 (1992-08-01)
A simple four-element fused-silica lens is presented that has a focal length of 31.2 mm and a relative aperture of f/1 for use as a focusing lens for deep UV laser processing. The curvature of the lens is designed with
Tantalum foil pegs.
E MAXWELL
American journal of ophthalmology, 34(3), 444-444 (1951-03-01)
J G Sen Gupta
Talanta, 31(12), 1053-1056 (1984-12-01)
A 40-fold increase in sensitivity obtained by using a tantalum foil lining in a pyrolytically-coated graphite furnace permitted determination of low ppm levels of cerium in most silicate rocks. A preliminary preconcentration by oxalate and hydroxide co-precipitations was used before
Zhongli Cai et al.
The journal of physical chemistry. B, 109(10), 4796-4800 (2006-07-21)
Both monolayer and thick (20 microm) films of dry pGEM-3Zf(-) plasmid DNA deposited on tantalum foil were exposed to Al Kalpha X-rays (1.5 keV) for various times in an ultrahigh vacuum chamber. For monolayer DNA, the damage was induced mainly

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