767514
Tantalum
sputtering target, diam. × thickness 2.00 in. × 0.25 in., 99.95% trace metals basis
Synonyme(s) :
Ta
About This Item
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Pression de vapeur
<0.01 mmHg ( 537.2 °C)
Essai
99.95% trace metals basis
Forme
foil
Température d'inflammation spontanée
572 °F
Pertinence de la réaction
core: tantalum
Résistivité
13.5 μΩ-cm, 20°C
Diam. × épaisseur
2.00 in. × 0.25 in.
pb
5425 °C (lit.)
Pf
2996 °C (lit.)
Densité
16.69 g/cm3 (lit.)
Chaîne SMILES
[Ta]
InChI
1S/Ta
Clé InChI
GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N
Application
Code de la classe de stockage
11 - Combustible Solids
Classe de danger pour l'eau (WGK)
nwg
Point d'éclair (°F)
Not applicable
Point d'éclair (°C)
Not applicable
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