Saltar al contenido
Merck

GF62916318

Tantalum

foil, 10mm disks, thickness 0.75mm, annealed, 99.9%

Sinónimos:

Tantalum, TA000485, Ta

Iniciar sesiónpara Ver la Fijación de precios por contrato y de la organización


About This Item

Fórmula empírica (notación de Hill):
Ta
Número de CAS:
Peso molecular:
180.95
MDL number:
UNSPSC Code:
12141741
PubChem Substance ID:
NACRES:
NA.23

vapor pressure

<0.01 mmHg ( 537.2 °C)

assay

99.9%

form

foil

autoignition temp.

572 °F

manufacturer/tradename

Goodfellow 629-163-18

resistivity

13.5 μΩ-cm, 20°C

diam. × thickness

10 mm × 0.75 mm

bp

5425 °C (lit.)

mp

2996 °C (lit.)

density

16.69 g/cm3 (lit.)

SMILES string

[Ta]

InChI

1S/Ta

InChI key

GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N

General description

For updated SDS information please visit www.goodfellow.com.

Legal Information

Product of Goodfellow

Certificados de análisis (COA)

Busque Certificados de análisis (COA) introduciendo el número de lote del producto. Los números de lote se encuentran en la etiqueta del producto después de las palabras «Lot» o «Batch»

¿Ya tiene este producto?

Encuentre la documentación para los productos que ha comprado recientemente en la Biblioteca de documentos.

Visite la Librería de documentos

Tantalum foil pegs.
E MAXWELL
American journal of ophthalmology, 34(3), 444-444 (1951-03-01)
Radmila Panajotovic et al.
Radiation research, 165(4), 452-459 (2006-04-04)
We determined effective cross sections for production of single-strand breaks (SSBs) in plasmid DNA [pGEM 3Zf(-)] by electrons of 10 eV and energies between 0.1 and 4.7 eV. After purification and lyophilization on a chemically clean tantalum foil, dry plasmid
Tantalum foil cuffs in peripheral nerve surgery.
E E CLIFFTON
Surgery, 23(3), 507-514 (1948-03-01)
T Y Hung et al.
Applied optics, 31(22), 4397-4404 (1992-08-01)
A simple four-element fused-silica lens is presented that has a focal length of 31.2 mm and a relative aperture of f/1 for use as a focusing lens for deep UV laser processing. The curvature of the lens is designed with
Zhongli Cai et al.
The journal of physical chemistry. B, 109(10), 4796-4800 (2006-07-21)
Both monolayer and thick (20 microm) films of dry pGEM-3Zf(-) plasmid DNA deposited on tantalum foil were exposed to Al Kalpha X-rays (1.5 keV) for various times in an ultrahigh vacuum chamber. For monolayer DNA, the damage was induced mainly

Nuestro equipo de científicos tiene experiencia en todas las áreas de investigación: Ciencias de la vida, Ciencia de los materiales, Síntesis química, Cromatografía, Analítica y muchas otras.

Póngase en contacto con el Servicio técnico