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Sigma-Aldrich

Boron trichloride, 1.0 M solution in toluene

1.0 M in toluene

Synonyme(s) :

Boron chloride, Trichloroborane

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About This Item

Formule empirique (notation de Hill):
BCl3
Numéro CAS:
Poids moléculaire :
117.17
Numéro MDL:
Code UNSPSC :
12352106
ID de substance PubChem :
Nomenclature NACRES :
NA.22

Concentration

1.0 M in toluene

Densité

0.909 g/mL at 25 °C

Chaîne SMILES 

ClB(Cl)Cl

InChI

1S/BCl3/c2-1(3)4

Clé InChI

FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N

Description générale

Boron trichloride (BCl3) is a boron halide typically used as a reagent in organic synthesis for the cleavage of C-O bonds in ethers.

Application

Boron trichloride (BCl3) can be used as a reactant in the preperation of borazine-linked polymer [BLP-10(Cl)] by thermal decomposition with benzidine for gas storage and purification.

Mention d'avertissement

Danger

Classification des risques

Acute Tox. 2 Oral - Acute Tox. 3 Inhalation - Aquatic Chronic 3 - Asp. Tox. 1 - Eye Dam. 1 - Flam. Liq. 2 - Repr. 1B - Skin Corr. 1B - STOT RE 2 - STOT SE 3

Organes cibles

Central nervous system

Risques supp

Code de la classe de stockage

3 - Flammable liquids

Classe de danger pour l'eau (WGK)

WGK 3

Point d'éclair (°F)

-2.0 °F

Point d'éclair (°C)

-18.9 °C

Équipement de protection individuelle

Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter


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Highly selective CO 2/CH 4 gas uptake by a halogen-decorated borazine-linked polymer
Reich TE, et al.
Journal of Materials Chemistry, 22(27), 13524-13528 (2012)
Conversion of aromatic aldehydes to gem-dichlorides using boron trichloride. A new highly efficient method for preparing dichloroarylmethanes.
Kabalka G W and Wu Z
Tetrahedron Letters, 41(5), 579-581 (2000)
Warwick J Belcher et al.
Dalton transactions (Cambridge, England : 2003), (12)(12), 1602-1614 (2008-03-13)
The reactions of boron halides with free base porphyrins under conditions where partial hydrolysis of the boron halides can occur give diboron porphyrin complexes containing BOB moieties in which each boron is bonded to two porphyrin nitrogen atoms. BF(3).OEt(2) with
Robert Winker et al.
International archives of occupational and environmental health, 81(4), 423-428 (2007-07-27)
To examine whether semiconductor workers exposed to complex mixtures of chemical waste show an increase in genotoxic effects, and, if so, whether occupational safety measures protect these workers. To assess chemical exposure in the workplace, air monitoring of boron trifluoride
Guillaume Reinisch et al.
The journal of physical chemistry. A, 115(18), 4786-4797 (2011-04-16)
We report on a theoretical study of the gas-phase decomposition of boron trichloride in the presence of hydrogen radicals using ab initio energetic calculations coupled to TST, RRKM, and VTST-VRC kinetic calculations. In particular, we present an addition-elimination mechanism (BCl(3)

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