Precursores para depósito de vapor y de disolución
El depósito de disoluciones químicas y de vapor químico son dos técnicas poderosas utilizadas para formar películas y recubrimientos sólidos delgados de precisión y gran calidad. El depósito de disolución, también conocido como procesamiento sol-gel, es un método popular que se utiliza para preparar una amplia gama de materiales de compuestos inorgánicos e híbridos a partir de una disolución de precursores. Se genera una suspensión coloidal conocida como “sol”, que se convierte en gel y posteriormente se transforma en sólido. Sin embargo, en el depósito de vapor se utiliza un conjunto de técnicas para convertir y emplear precursores o materiales específicos en la fase gaseosa para formar películas artificiales en sustratos. Nuestra selección de productos para técnicas de depósito le permite personalizar con precisión películas delgadas y sus propiedades de recubrimiento. Explore nuestra amplia gama de productos químicos precursores de deposición de película delgada de alta calidad y confiables según el método y la aplicación que elija.
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Precursores de depósito de disolución
Ofrecemos una diversa gama de precursores de depósito de disoluciones específicas. Están disponibles con 55 metales básicos diferentes, así como acetato, acetilacetonato, terc-butóxido, isopropóxido, fenóxido, etóxido, tri-sec-butóxido, metóxido, 2-etilhexanoato junto con una variedad de otras funcionalidades. Estos productos se ofrecen en purezas que van desde el 90 % hasta el 99,999 %, en concentraciones variadas en disolventes seleccionados y formas hidratadas específicas que contribuyen a su química distintiva.
Precursores de depósito químico de vapor (CVD)/precursores de depósito de capa atómica (ALD)
Suministramos precursores organometálicos volátiles, metálicos y metalorgánicos de gran calidad para CVD/ALD. Para mayor comodidad y seguridad, los precursores preenvasados vienen en cilindros de acero para utilizarse con una variedad de sistemas de depósito.
Materiales para depósito físico de vapor
En el depósito físico de vapor (PVD) se utiliza material vaporizado de un material original sólido para depositar películas delgadas en un sustrato. Ofrecemos objetivos de pulverización de gran pureza, gránulos, láminas metálicas y virutas de evaporación para su uso en diversas aplicaciones de PVD. Entre ellas, dispositivos microelectrónicos, electrodos de batería, barreras de difusión y revestimientos ópticos.
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