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陶瓷蚀刻剂 A

• 别名: Al₂O₃ Etch, GaN Etch, Si₃N₄ Etch, 氧化铝蚀刻剂, 氮化硅蚀刻剂, 氮化镓蚀刻剂
• MDL號碼: MFCD08705343
• 分類程式碼代碼: 12352300
• NACRES: NA.23

说明

應用

用于氮化硅 (Si₃N₄)、氮化镓 (GaN) 或氧化铝 (Al₂O₃) 的快速可控蚀刻。

特點和優勢

180°C 下的蚀刻速率：
氧化铝 120Å/min
氮化硅 125Å/min
氮化镓 80Å/min
二氧化硅 1Å/min
硅 1Å/min

安全信息

• 象形圖: GHS05,GHS07
• 訊號詞: Danger
• 危險聲明: H290,H302,H314
• 防範說明: P234 - P270 - P280 - P301 + P312 - P303 + P361 + P353 - P305 + P351 + P338
• 危險分類: Acute Tox. 4 Oral - Eye Dam. 1 - Met. Corr. 1 - Skin Corr. 1B
• 儲存類別代碼: 8B - Non-combustible corrosive hazardous materials
• 水污染物質分類（WGK）: WGK 1
• 閃點（°F）: Not applicable
• 閃點（°C）: Not applicable
• 個人防護裝備: Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter