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铬蚀刻剂

standard

• 别名: Cr etching solution
• MDL號碼: MFCD07370678
• 分類程式碼代碼: 12352300
• NACRES: NA.23

属性

• 等級: standard
• 品質等級: 100
• 成份: volatiles, 85%
• 顏色: orange
• bp: 100 °C/1 atm
• 密度: 1.16 g/mL at 25 °C

说明

一般說明

• 外观- 橙色透明
• pH - 酸性
• 40 °C下蚀刻速度 - 40 Å/秒
• 蚀刻能力（ ~70%速度下降) - 65 克/加仑
• 保质期- 1 年
• 储存条件 - 室温
• 过滤 - 0.2 µm
• 推荐操作温度 - 20-80 °C （30-40 °C 最常见）
• 冲洗 - 去离子水r
• 光致抗蚀剂建议 - KLT6000 系列、KLT 5300 系列、HARE SQT （SU-8型）、 TRANSIST或PKP -308PI
• 相容的材料 - 金、钛、氧化物、氮化物、硅
• 不相容的材料 - 铝、镍、铜、镍铬合金
• 相容的塑料 - HDPE、PP、PTFE、PFA、PVC
• 各向同性- 具有各向同性
• 不相容的化学品- 强碱

我们的铬蚀刻剂是一种高纯度硝酸铈铵系统，用于铬和氧化铬薄膜精确、洁净的蚀刻。兼容阳性和阴性光致抗蚀剂。我们的铬蚀刻剂通过过滤去除了0.2 微米以上的所有颗粒。 蚀刻温度因薄膜厚度不同而不同。室温下蚀刻时间在15秒至60秒之间。铬蚀刻剂应在通风橱中操作。

硝酸铈铵基蚀刻剂。室温下蚀刻速率为40埃/秒。只需用去离子水冲洗干净即可蚀刻。

铬蚀刻剂是铬基溶液，可从底物移除多余金属。这些蚀刻剂主要用于金属表面处理和电子工业。蚀刻速率为4 mm/s，可用于蚀刻镍、铜和铬基多余金属。

應用

该产品可蚀刻铝、铬、铜、镍、GaAs。它能表面氧化硅、钽/TaN，但对Si₃N₄, SiO₂, Ti, 和 W表面没有影响

用于室温或高温条件。蚀刻干净，省去中间清洗环节。蚀刻温度随膜的厚度而改变。室温下蚀刻时间在 15 到 60 秒之间。注意，应在通风良好的通风橱内处理铬蚀刻剂。

特點和優勢

设计用于铬和氧化铬薄膜的精确、清洁蚀刻。与正性和负性光致抗蚀剂均可相容。经 0.2 微米孔过器过滤以去除微粒。

安全信息

• 象形圖: GHS03,GHS05,GHS07,GHS09
• 訊號詞: Danger
• 危險聲明: H272,H290,H314,H317,H411
• 防範說明: P210 - P220 - P273 - P280 - P303 + P361 + P353 - P305 + P351 + P338
• 危險分類: Aquatic Chronic 2 - Eye Dam. 1 - Met. Corr. 1 - Ox. Liq. 2 - Skin Corr. 1B - Skin Sens. 1
• 安全危害: EUH071
• 儲存類別代碼: 5.1B - Oxidizing hazardous materials
• 水污染物質分類（WGK）: WGK 3
• 閃點（°F）: Not applicable
• 閃點（°C）: Not applicable