Präkursoren für die Lösungs- & Gasphasenabscheidung
Die chemische Lösungsabscheidung und chemische Gasphasenabscheidung stellen zwei leistungsstarke Verfahren zum Bilden hochwertiger und präziser fester Dünnfilme und Beschichtungen dar. Die Lösungsabscheidung, auch als Sol-Gel-Verfahren bekannt, ist eine gängige Methode zum Herstellen eines breiten Spektrums anorganischer und hybrider Kompositmaterialien aus Präkursorlösungen. Eine kolloidale Suspension, die als „Sol“ bekannt ist, wird hergestellt, zu einem Gel und anschließend zu einem Feststoff umgewandelt. Bei der Gasphasenabscheidung hingegen kommen zahlreiche Verfahren zum Einsatz, um Vorläufer- oder Zielmaterialien in der Gasphase zur Bildung von Schichten auf Substraten umzuwandeln und aufzubringen. Unsere Auswahl an Produkten für verschiedene Abscheidungsverfahren ermöglicht Ihnen das präzise Anpassen von Dünnfilmen und deren Beschichtungseigenschaften. Erkunden Sie unser breites Spektrum an hochwertigen und verlässlichen chemischen Präkursoren (Vorstufen) für die Dünnfilmabscheidung, passend zu Ihrer gewählten Methode und Anwendung.
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Vorläufer für die Lösungsabscheidung
Wir bieten eine breite Palette spezieller Präkursoren für die Abscheidung aus einer Lösung: Sie sind mit 55 verschiedenen Basismetallen sowie Acetat, Acetylacetonat, tert-Butoxid, Isopropoxid, Phenoxid, Ehtodix, tri-sec-Butoxid und 2-Ethylhexanoat in Kombination mit einer Reihe anderer Funktionalitäten erhältlich. Diese Produkte werden in Reinheitsgraden von 90 % bis 99,999 %, in verschiedenen Konzentrationen in ausgewählten Lösungsmitteln und mit spezifischen hydrierten Formen angeboten, um Ihre eigene dedizierte Chemie zu unterstützen.
Präkursoren für die chemische Gasphasenabscheidung (CVD) / Präkursoren für die Atomlagenabscheidung (ALD)
Wir liefern hochwertige flüchtige metallorganische Präkursoren, Metall-Präkursoren und metallorganische Präkursoren für CVD/ALD. Aus Komfort- und Sicherheitsgründen sind diese Vorläufer in Stahlzylindern verpackt und eignen sich für die Verwendung in einer Vielzahl von Abscheidungssystemen.
Materialien für die physikalische Gasphasenabscheidung
Bei der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD) wird verdampftes Material aus einem festen Ausgangsmaterial verwendet, um dünne Schichten auf ein Substrat aufzubringen. Wir bieten hochreine Sputtertargets, Pellets, Metallfolien und Verdampfungskerne für verschiedene PVD-Anwendungen an. Darunter mikroelektronische Geräte, Batterieelektroden, Diffusionsbarrieren und optische Beschichtungen.
Zugehörige Produktressourcen
- Deposition Grade Silanes for Sol-Gel Processes
Deposition Grade Silanes, fully characterized by chemical analysis and nuclear magnetic resonance (NMR) with greater than 98% purity, for Sol-Gel Processes.
- Materials for Thin Film SOFCs
Thin film solid oxide fuel cells offer technical advantages; review of TF-SOFC deposition methods for electrolyte thin films.
- Boron Nitride Nanotubes: Properties, Synthesis and Applications
Boron nitride nanotubes (BNNT) are close structural analogs of carbon nanotubes (CNT), which are high aspect ratio nanotubular material, where carbon atoms are alternately substituted by nitrogen and boron atoms.
- CoMoCAT® Single-wall Carbon Nanotubes
The CoMoCAT® method of single-walled carbon nanotube (SWNT) synthesis yields high purity SWNTs with specific chiralities and narrow distributions of tube diameters.
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