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Merck

Atomic layer deposition and properties of ZrO

Beilstein journal of nanotechnology (2018-02-15)
Kristjan Kalam, Helina Seemen, Peeter Ritslaid, Mihkel Rähn, Aile Tamm, Kaupo Kukli, Aarne Kasikov, Joosep Link, Raivo Stern, Salvador Dueñas, Helena Castán, Héctor García
要旨

Thin solid films consisting of ZrO

材料
製品番号
ブランド
製品内容

Sigma-Aldrich
フェロセン, 98%