202118
Hafnium(IV) oxide
powder, 98%
About This Item
Doporučené produkty
assay
98%
form
powder
density
9.68 g/mL at 25 °C (lit.)
SMILES string
O=[Hf]=O
InChI
1S/Hf.2O
Inchi Key
CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N
Hledáte podobné produkty? Navštivte Průvodce porovnáváním produktů
Application
- Hafnium(IV) oxide: Utilized predominantly in the semiconductor industry, Hafnium(IV) oxide offers excellent thermal and chemical stability, which makes it suitable as a high-k gate dielectric material in metal-oxide-semiconductor (MOS) devices. Its application has become increasingly important with the miniaturization of electronic components, aiding in the enhancement of transistor performance without further reducing the component size. This role is critical in the development of more efficient, faster computing technologies (Sigma-Aldrich, CAS 12055-23-1).
Storage Class
11 - Combustible Solids
wgk_germany
nwg
flash_point_f
Not applicable
flash_point_c
Not applicable
ppe
Eyeshields, Gloves, type N95 (US)
Osvědčení o analýze (COA)
Vyhledejte osvědčení Osvědčení o analýze (COA) zadáním čísla šarže/dávky těchto produktů. Čísla šarže a dávky lze nalézt na štítku produktu za slovy „Lot“ nebo „Batch“.
Již tento produkt vlastníte?
Dokumenty související s produkty, které jste v minulosti zakoupili, byly za účelem usnadnění shromážděny ve vaší Knihovně dokumentů.
Zákazníci si také prohlíželi
Sortimentní položky
In recent years silicon carbide, SiC, has re-emerged as a vital technological material that is crucial in many materials and engineering applications.
Náš tým vědeckých pracovníků má zkušenosti ve všech oblastech výzkumu, včetně přírodních věd, materiálových věd, chemické syntézy, chromatografie, analytiky a mnoha dalších..
Obraťte se na technický servis.