Saltar al contenido
Merck
Todas las fotos(2)

Documentos

669008

Sigma-Aldrich

Tetrakis(dimethylamido)titanium(IV)

packaged for use in deposition systems

Sinónimos:

TDMAT, Tetrakis(dimethylamino)titanium(IV)

Iniciar sesiónpara Ver la Fijación de precios por contrato y de la organización
Todas las fotos(2)

About This Item

Fórmula lineal:
[(CH3)2N]4Ti
Número de CAS:
3275-24-9
Peso molecular:
224.17
EC Number:
221-904-3
MDL number:
MFCD00014861
UNSPSC Code:
12352103
PubChem Substance ID:
24885015
NACRES:
NA.23

assay

99.999% (trace metals analysis)

form

liquid

reaction suitability

core: titanium

bp

50 °C/0.5 mmHg (lit.)

density

0.947 g/mL at 25 °C (lit.)

SMILES string

CN(C)[Ti](N(C)C)(N(C)C)N(C)C

InChI

1S/4C2H6N.Ti/c4*1-3-2;/h4*1-2H3;/q4*-1;+4

InChI key

MNWRORMXBIWXCI-UHFFFAOYSA-N

¿Está buscando productos similares? Visita Guía de comparación de productos

General description

Atomic number of base material: 22 Titanium

Application

Precursors Packaged for Depositions Systems
The product is a precursor for the deposition of titanium dioxide thin films by atomic layer deposition with water. Tetrakis(dimethylamido)titanium(IV) (TDMAT) undergoes exothermal reaction with excess cyclopentadiene to yield tris(dimethylamido)(η5-cyclopentadienyl)titanium(IV).

pictograms

FlameCorrosion
GHS02,GHS05

signalword

Danger

Hazard Classifications

Flam. Liq. 2 - Skin Corr. 1B - Water-react 1

supp_hazards

EUH014

Storage Class

4.3 - Hazardous materials which set free flammable gases upon contact with water

wgk_germany

WGK 3

flash_point_f

-22.0 °F - closed cup

flash_point_c

-30 °C - closed cup

ppe

Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter

Certificados de análisis (COA)

Busque Certificados de análisis (COA) introduciendo el número de lote del producto. Los números de lote se encuentran en la etiqueta del producto después de las palabras «Lot» o «Batch»

¿Ya tiene este producto?

Encuentre la documentación para los productos que ha comprado recientemente en la Biblioteca de documentos.

Visite la Librería de documentos

Journal of Applied Physics, 102, 083521/1-083521/1 (2007)
Mikami K, et al. et al.
Science of Synthesis: Houben-Weyl Methods of Molecular Transformations, 2, 494-494 (2014)
Matthew T McDowell et al.
ACS applied materials & interfaces, 7(28), 15189-15199 (2015-06-18)
Light absorbers with moderate band gaps (1-2 eV) are required for high-efficiency solar fuels devices, but most semiconducting photoanodes undergo photocorrosion or passivation in aqueous solution. Amorphous TiO2 deposited by atomic-layer deposition (ALD) onto various n-type semiconductors (Si, GaAs, GaP

Artículos

Savannah ALD System for Atomic Layer Deposition

Atomic Layer Deposition (ALD) technology ensures uniform coating on complex 3D surfaces with precise chemisorption cycles.

Nanocomposite Coatings with Tunable Properties Prepared by Atomic Layer Deposition

Nanocomposite Coatings with Tunable Properties Prepared by Atomic Layer Deposition

Dye-Sensitized and Perovskite Solar Cells

Continuous efficiency improvements in photovoltaic devices result from material advancements and manufacturing innovation.

High Purity Metalorganic Precursors for Concentrator Photovoltaic Technologies Device Fabrication

Thin film photovoltaic devices have become increasingly important in efficiently harnessing solar energy to meet consumer demand.

Ver todo

Nuestro equipo de científicos tiene experiencia en todas las áreas de investigación: Ciencias de la vida, Ciencia de los materiales, Síntesis química, Cromatografía, Analítica y muchas otras.

Póngase en contacto con el Servicio técnico