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Sigma-Aldrich

Peroxyde d'hydrogène solution

semiconductor grade MOS PURANAL™ (Honeywell 17937), ≥30%

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About This Item

Formule empirique (notation de Hill):
H2O2
Numéro CAS:
7722-84-1
Poids moléculaire :
34.01
Numéro Beilstein :
3587191
Numéro MDL:
MFCD00011333
Code UNSPSC :
12352304
ID de substance PubChem :
57649964

Qualité

semiconductor grade MOS PURANAL™ (Honeywell 17937)

Pression de vapeur

23.3 mmHg ( 30 °C)

Pureté

≥30%

CofA (certificat d'analyse)

specification on request

Durée de conservation

~2 yr

Pertinence de la réaction

reagent type: oxidant

Concentration

25-35%

Densité

1.110 g/cm3

Température de stockage

2-8°C

Chaîne SMILES 

OO

InChI

1S/H2O2/c1-2/h1-2H

Clé InChI

MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N

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Description générale

Hydrogen peroxide is a strong oxidizer. It may be produced industrially by anthraquinone oxidation. it is used in semiconductor industry essentially for cleaning silicon wafers, removal of photoresists and to etch metallic copper on printed circuit boards. Ultrapurification of hydrogen peroxide by reverse osmosis has been reported in detail.

Application

Semiconductor grade hydrogen peroxide was used to etch TiN 2 and GaAs structures.

Informations légales

PURANAL is a trademark of Honeywell Specialty Chemicals Seelze GmbH

Pictogrammes

Corrosion
GHS05

Mention d'avertissement

Danger

Mentions de danger

H318,H412

Classification des risques

Aquatic Chronic 3 - Eye Dam. 1

Code de la classe de stockage

5.1B - Oxidizing hazardous materials

Classe de danger pour l'eau (WGK)

WGK 1

Point d'éclair (°F)

Not applicable

Point d'éclair (°C)

Not applicable

Équipement de protection individuelle

Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter

Certificats d'analyse (COA)

Recherchez un Certificats d'analyse (COA) en saisissant le numéro de lot du produit. Les numéros de lot figurent sur l'étiquette du produit après les mots "Lot" ou "Batch".

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