697079
Titanium tetrachloride
packaged for use in deposition systems
Synonyme(s) :
Titanium(IV) chloride, TTC, Titanium tetrachloride
About This Item
Produits recommandés
Pression de vapeur
50 mmHg ( 55 °C)
9.6 mmHg ( 20 °C)
Pureté
≥99.995% (trace metals analysis)
Forme
liquid
Pertinence de la réaction
core: titanium
reagent type: catalyst
Point d'ébullition
135-136 °C (lit.)
Pf
−25 °C (lit.)
Densité
1.73 g/mL at 20 °C (lit.)
Chaîne SMILES
Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl
InChI
1S/4ClH.Ti/h4*1H;/q;;;;+4/p-4
Clé InChI
XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J
Vous recherchez des produits similaires ? Visite Guide de comparaison des produits
Description générale
Application
- γ,δ-unsaturated alcohols from allylsilanes and carbonyl compounds,
- N-Phosphinoylimines and N-sulphonylimines from aromatic aldehydes,
- Homoallyl ethers from allylsilanes and acetals.6
Mention d'avertissement
Danger
Mentions de danger
Classification des risques
Acute Tox. 1 Inhalation - Eye Dam. 1 - Skin Corr. 1B - STOT SE 3
Organes cibles
Respiratory system
Risques supp
Code de la classe de stockage
6.1A - Combustible acute toxic Cat. 1 and 2 / very toxic hazardous materials
Classe de danger pour l'eau (WGK)
WGK 1
Point d'éclair (°F)
Not applicable
Point d'éclair (°C)
Not applicable
Équipement de protection individuelle
Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter
Certificats d'analyse (COA)
Recherchez un Certificats d'analyse (COA) en saisissant le numéro de lot du produit. Les numéros de lot figurent sur l'étiquette du produit après les mots "Lot" ou "Batch".
Déjà en possession de ce produit ?
Retrouvez la documentation relative aux produits que vous avez récemment achetés dans la Bibliothèque de documents.
Articles
Atomic Layer Deposition (ALD) technology ensures uniform coating on complex 3D surfaces with precise chemisorption cycles.
Atomic Layer Deposition (ALD) technology ensures uniform coating on complex 3D surfaces with precise chemisorption cycles.
Atomic Layer Deposition (ALD) technology ensures uniform coating on complex 3D surfaces with precise chemisorption cycles.
Atomic Layer Deposition (ALD) technology ensures uniform coating on complex 3D surfaces with precise chemisorption cycles.
Notre équipe de scientifiques dispose d'une expérience dans tous les secteurs de la recherche, notamment en sciences de la vie, science des matériaux, synthèse chimique, chromatographie, analyse et dans de nombreux autres domaines..
Contacter notre Service technique