651761
Negative resist remover I
About This Item
Produits recommandés
Durée de conservation
1 yr (cool area away from direct sunlight)
pH
<2 (20 °C)
Point d'ébullition
204-304 °C (lit.)
Densité
1.00 g/mL at 25 °C (lit.)
Température de stockage
2-8°C
Description générale
Mention d'avertissement
Danger
Mentions de danger
Classification des risques
Acute Tox. 4 Oral - Aquatic Chronic 2 - Asp. Tox. 1 - Carc. 2 - Eye Dam. 1 - Skin Corr. 1
Code de la classe de stockage
8A - Combustible corrosive hazardous materials
Classe de danger pour l'eau (WGK)
WGK 3
Point d'éclair (°F)
204.8 °F
Point d'éclair (°C)
96 °C
Certificats d'analyse (COA)
Recherchez un Certificats d'analyse (COA) en saisissant le numéro de lot du produit. Les numéros de lot figurent sur l'étiquette du produit après les mots "Lot" ou "Batch".
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Protocoles
Photoresist kit offers pre-weighed chemical components for lithographic processes, with separate etchants for various substrate choices.
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